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高纯锆靶

高纯锆靶

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高纯锆靶

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产品描述

纯度:Zr+Hf≥99.98%,Hf≤0.01% or Hf≤3%


形态:方靶、圆靶,可根据客户要求加工成各种尺寸


应用:半导体镀膜、光学镀膜


 

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