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高纯锆靶
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高纯锆靶
产品描述
纯度:Zr+Hf≥99.98%,Hf≤0.01% or Hf≤3%
形态:方靶、圆靶,可根据客户要求加工成各种尺寸
应用:半导体镀膜、光学镀膜
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纯度:Zr+Hf≥99.98%,Hf≤0.01% or Hf≤3%
形态:方靶、圆靶,可根据客户要求加工成各种尺寸
应用:半导体镀膜、光学镀膜